
เรือทำความสะอาดควอตซ์เวเฟอร์
เรือทำความสะอาดเวเฟอร์ควอตซ์เป็นอุปกรณ์ที่ใช้ในการทำความสะอาดเวเฟอร์ในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์
วัสดุ: ควอตซ์ 99.99%
คำอธิบาย
คุณสมบัติ
- ทนต่ออุณหภูมิสูง
- ความต้านทานการกัดกร่อน
- ทนต่อการสึกหรอ
- ทำความสะอาดง่าย
ใช้: ขจัดสิ่งปนเปื้อนบนพื้นผิว
ตรวจสอบคุณภาพการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์
แอปพลิเคชัน
1. ก่อน-การทำความสะอาดการแพร่กระจาย
ใช้เพื่อขนส่งเวเฟอร์ผ่านม้านั่งเปียกหรือขั้นตอนการทำความสะอาดแบบจุ่ม (เช่น การทำความสะอาด RCA) เพื่อกำจัดสารปนเปื้อนอินทรีย์ โลหะ และอนุภาคก่อน-กระบวนการแพร่หรือออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูง
2. การทำความสะอาดหลัง-CMP (การวางแผนเชิงวิเคราะห์ทางเคมี)
ยึดเวเฟอร์ระหว่างการทำความสะอาดหลังการขัด-เพื่อขจัดคราบตกค้างและข้อบกพร่องที่พื้นผิว รับรองความเรียบที่เหมาะสมสำหรับขั้นตอนการพิมพ์หินครั้งต่อไป
3. การผลิตส่วนหน้า-ปลาย-ของ-เส้น (FEOL)
ใช้ในขั้นตอนการทำความสะอาด FEOL ที่สำคัญซึ่งจำเป็นต้องมีพื้นผิวที่สะอาดเป็นพิเศษ-สำหรับการเจริญเติบโตของเกทออกไซด์ การสะสมของเยื่อบุผิว หรือการฝังไอออน
4. การประมวลผลด้านหลัง-สิ้นสุด-ของ-บรรทัด (BEOL)
รองรับเวเฟอร์ระหว่างการทำความสะอาดหลัง-กัดหรือหลังการทับถม-เพื่อขจัดสารต้านทานแสง ผลพลอยได้จากการกัด และสิ่งสกปรกที่เป็นโลหะหลังจากเกิดการเชื่อมต่อถึงกัน
5. บรรจุภัณฑ์ขั้นสูง
อำนวยความสะดวกในการทำความสะอาดระดับเวเฟอร์-ก่อนที่จะหั่นเป็นชิ้นหรือเชื่อมในบรรจุภัณฑ์ IC 2.5D/3D ช่วยให้มั่นใจว่าอินเทอร์เฟซที่ปราศจากการปนเปื้อน-สำหรับการเชื่อมต่อระหว่างกันที่เชื่อถือได้
6. การผลิตไฟฟ้าโซลาร์เซลล์
ใช้ในการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์เพื่อทำความสะอาดพื้นผิวซิลิกอน ปรับปรุงคุณภาพพื้นผิวเพื่อการดูดซับแสงที่ดีขึ้นและประสิทธิภาพการแปลงพลังงาน
คุณสมบัติ
|
คุณสมบัติทางกายภาพ |
ค่านิยม |
|
ความบริสุทธิ์ |
>99.99% |
|
ความหนาแน่น |
2.2กรัม/ซม3 |
|
ความโปร่งใส |
>90% |
|
ความแข็งของโมห์ |
5.5--6.5 |
|
จุดเปลี่ยนรูป |
1280 องศา |
|
จุดอ่อนตัว |
1750 องศา |
|
จุดหลอมเหลว |
1250 องศา |
|
ความร้อนจำเพาะ (20 - 350 องศา ) |
670จูล/กก. ระดับ |
|
การนำความร้อน (20 องศา) |
1.4 วัตต์/ม. ระดับ |
|
ค่าการนำความร้อน (w/mk,1000 องศา ) |
1.0-1.2 |
|
ดัชนีการหักเหของแสง |
1.4585 |
|
ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อน |
5.510 -7ซม./ซม. ระดับ |
|
อุณหภูมิในการทำงานร้อน - |
พ.ศ. 2293--2593 องศา |
|
อุณหภูมิบริการระยะสั้น - |
1450 องศา |
|
อุณหภูมิบริการระยะยาว - |
1100 องศา |
|
คุณสมบัติทางเคมี |
ค่านิยม |
|
ทนต่อกรด |
กรดแก่ (ยกเว้น HF), ด่างแก่, สารละลายอินทรีย์ |
|
ทนต่อการกัดกร่อนที่อุณหภูมิสูง |
ยอดเยี่ยม |
|
ปริมาณโลหะเจือปน |
<5 แผ่นต่อนาที |
|
คุณสมบัติทางไฟฟ้า |
ค่านิยม |
|
ความต้านทาน |
7107Ω.ซม |
|
ความแข็งแรงของฉนวน |
250~400Kv/ซม |
|
ค่าคงที่ไดอิเล็กทริก |
3.7~3.9 |
|
ค่าสัมประสิทธิ์การดูดซึมอิเล็กทริก |
<410-4 |
|
ค่าสัมประสิทธิ์การสูญเสียอิเล็กทริก |
<110-4 |
|
คุณสมบัติทางกล |
ค่านิยม |
|
แรงอัด |
1100MPa |
|
แรงดัดงอ |
67MPa |
|
ความต้านแรงดึง |
48MPa |
|
อัตราส่วนปัวซอง |
0.14~0.17 |
|
โมดูลัสของยัง |
72000MPa |
|
โมดูลัสแรงเฉือน |
31000MPa |
วิธีการทำความสะอาด
การทำความสะอาดแบบจุ่ม:
วางเวเฟอร์ลงในเรือทำความสะอาด จากนั้นจุ่มเรือทำความสะอาดลงในน้ำยาทำความสะอาด และเพิ่มการสัมผัสระหว่างน้ำยาทำความสะอาดกับพื้นผิวเวเฟอร์โดยการยกเรือเวเฟอร์เพื่อปรับปรุงผลการทำความสะอาด
สเปรย์ทำความสะอาด:
ตั้งเรือทำความสะอาดให้ตั้งตรงในห้องสเปรย์ และใช้หัวฉีดเพื่อฉีดน้ำยาทำความสะอาดบนพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์เพื่อขจัดสิ่งปนเปื้อน
ความสำคัญของการทำความสะอาดเรือ:
- รับประกันความสะอาดของเวเฟอร์: พื้นผิวเวเฟอร์ที่สะอาดมีความสำคัญอย่างยิ่งต่อคุณภาพการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ และเรือทำความสะอาดมีบทบาทสำคัญในกระบวนการทำความสะอาด
- รับประกันความน่าเชื่อถือของชิปเซมิคอนดักเตอร์: รับประกันความน่าเชื่อถือของชิปและลดข้อบกพร่องของผลิตภัณฑ์โดยการกำจัดสิ่งปนเปื้อนบนพื้นผิว
- ปรับปรุงผลผลิตของชิปเซมิคอนดักเตอร์: ปรับปรุงความสะอาดของเวเฟอร์ จึงช่วยเพิ่มผลผลิตของชิปเซมิคอนดักเตอร์
ป้ายกำกับยอดนิยม: เรือทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์ควอทซ์ ประเทศจีนผู้ผลิตเรือทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์ควอทซ์ ซัพพลายเออร์ โรงงาน
ส่งคำถาม
คุณอาจชอบ







