เรือทำความสะอาดควอตซ์เวเฟอร์

เรือทำความสะอาดควอตซ์เวเฟอร์

เรือทำความสะอาดเวเฟอร์ควอตซ์เป็นอุปกรณ์ที่ใช้ในการทำความสะอาดเวเฟอร์ในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์
วัสดุ: ควอตซ์ 99.99%

คำอธิบาย

คุณสมบัติ

 

  • ทนต่ออุณหภูมิสูง
  • ความต้านทานการกัดกร่อน
  • ทนต่อการสึกหรอ
  • ทำความสะอาดง่าย

ใช้: ขจัดสิ่งปนเปื้อนบนพื้นผิว

ตรวจสอบคุณภาพการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์

 

แอปพลิเคชัน

1. ก่อน-การทำความสะอาดการแพร่กระจาย

ใช้เพื่อขนส่งเวเฟอร์ผ่านม้านั่งเปียกหรือขั้นตอนการทำความสะอาดแบบจุ่ม (เช่น การทำความสะอาด RCA) เพื่อกำจัดสารปนเปื้อนอินทรีย์ โลหะ และอนุภาคก่อน-กระบวนการแพร่หรือออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูง

2. การทำความสะอาดหลัง-CMP (การวางแผนเชิงวิเคราะห์ทางเคมี)

ยึดเวเฟอร์ระหว่างการทำความสะอาดหลังการขัด-เพื่อขจัดคราบตกค้างและข้อบกพร่องที่พื้นผิว รับรองความเรียบที่เหมาะสมสำหรับขั้นตอนการพิมพ์หินครั้งต่อไป

3. การผลิตส่วนหน้า-ปลาย-ของ-เส้น (FEOL)

ใช้ในขั้นตอนการทำความสะอาด FEOL ที่สำคัญซึ่งจำเป็นต้องมีพื้นผิวที่สะอาดเป็นพิเศษ-สำหรับการเจริญเติบโตของเกทออกไซด์ การสะสมของเยื่อบุผิว หรือการฝังไอออน

4. การประมวลผลด้านหลัง-สิ้นสุด-ของ-บรรทัด (BEOL)

รองรับเวเฟอร์ระหว่างการทำความสะอาดหลัง-กัดหรือหลังการทับถม-เพื่อขจัดสารต้านทานแสง ผลพลอยได้จากการกัด และสิ่งสกปรกที่เป็นโลหะหลังจากเกิดการเชื่อมต่อถึงกัน

5. บรรจุภัณฑ์ขั้นสูง

อำนวยความสะดวกในการทำความสะอาดระดับเวเฟอร์-ก่อนที่จะหั่นเป็นชิ้นหรือเชื่อมในบรรจุภัณฑ์ IC 2.5D/3D ช่วยให้มั่นใจว่าอินเทอร์เฟซที่ปราศจากการปนเปื้อน-สำหรับการเชื่อมต่อระหว่างกันที่เชื่อถือได้

6. การผลิตไฟฟ้าโซลาร์เซลล์

ใช้ในการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์เพื่อทำความสะอาดพื้นผิวซิลิกอน ปรับปรุงคุณภาพพื้นผิวเพื่อการดูดซับแสงที่ดีขึ้นและประสิทธิภาพการแปลงพลังงาน

 

คุณสมบัติ

 

คุณสมบัติทางกายภาพ

ค่านิยม

ความบริสุทธิ์

>99.99%

ความหนาแน่น

2.2กรัม/ซม3

ความโปร่งใส

>90%

ความแข็งของโมห์

5.5--6.5

จุดเปลี่ยนรูป

1280 องศา

จุดอ่อนตัว

1750 องศา

จุดหลอมเหลว

1250 องศา

ความร้อนจำเพาะ (20 - 350 องศา )

670จูล/กก. ระดับ

การนำความร้อน (20 องศา)

1.4 วัตต์/ม. ระดับ

ค่าการนำความร้อน (w/mk,1000 องศา )

1.0-1.2

ดัชนีการหักเหของแสง

1.4585

ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อน

5.510 -7ซม./ซม. ระดับ

อุณหภูมิในการทำงานร้อน -

พ.ศ. 2293--2593 องศา

อุณหภูมิบริการระยะสั้น -

1450 องศา

อุณหภูมิบริการระยะยาว -

1100 องศา

 

คุณสมบัติทางเคมี

ค่านิยม

ทนต่อกรด

กรดแก่ (ยกเว้น HF), ด่างแก่, สารละลายอินทรีย์

ทนต่อการกัดกร่อนที่อุณหภูมิสูง

ยอดเยี่ยม

ปริมาณโลหะเจือปน

<5 แผ่นต่อนาที

 

คุณสมบัติทางไฟฟ้า

ค่านิยม

ความต้านทาน

7107Ω.ซม

ความแข็งแรงของฉนวน

250~400Kv/ซม

ค่าคงที่ไดอิเล็กทริก

3.7~3.9

ค่าสัมประสิทธิ์การดูดซึมอิเล็กทริก

<410-4

ค่าสัมประสิทธิ์การสูญเสียอิเล็กทริก

<110-4

 

คุณสมบัติทางกล

ค่านิยม

แรงอัด

1100MPa

แรงดัดงอ

67MPa

ความต้านแรงดึง

48MPa

อัตราส่วนปัวซอง

0.14~0.17

โมดูลัสของยัง

72000MPa

โมดูลัสแรงเฉือน

31000MPa

 

วิธีการทำความสะอาด

 

การทำความสะอาดแบบจุ่ม:

วางเวเฟอร์ลงในเรือทำความสะอาด จากนั้นจุ่มเรือทำความสะอาดลงในน้ำยาทำความสะอาด และเพิ่มการสัมผัสระหว่างน้ำยาทำความสะอาดกับพื้นผิวเวเฟอร์โดยการยกเรือเวเฟอร์เพื่อปรับปรุงผลการทำความสะอาด

 

สเปรย์ทำความสะอาด:

ตั้งเรือทำความสะอาดให้ตั้งตรงในห้องสเปรย์ และใช้หัวฉีดเพื่อฉีดน้ำยาทำความสะอาดบนพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์เพื่อขจัดสิ่งปนเปื้อน 

 

ความสำคัญของการทำความสะอาดเรือ:

  • รับประกันความสะอาดของเวเฟอร์: พื้นผิวเวเฟอร์ที่สะอาดมีความสำคัญอย่างยิ่งต่อคุณภาพการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ และเรือทำความสะอาดมีบทบาทสำคัญในกระบวนการทำความสะอาด
  • รับประกันความน่าเชื่อถือของชิปเซมิคอนดักเตอร์: รับประกันความน่าเชื่อถือของชิปและลดข้อบกพร่องของผลิตภัณฑ์โดยการกำจัดสิ่งปนเปื้อนบนพื้นผิว
  • ปรับปรุงผลผลิตของชิปเซมิคอนดักเตอร์: ปรับปรุงความสะอาดของเวเฟอร์ จึงช่วยเพิ่มผลผลิตของชิปเซมิคอนดักเตอร์

ป้ายกำกับยอดนิยม: เรือทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์ควอทซ์ ประเทศจีนผู้ผลิตเรือทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์ควอทซ์ ซัพพลายเออร์ โรงงาน

คุณอาจชอบ

ถุงช้อปปิ้ง